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EDI(Electrodeionization)中文稱為電去離子技術(shù)，是結(jié)合了兩種成熟的去離子技術(shù)——電滲析去離子技術(shù)和離子混床去離子技術(shù)的一種新型成熟水處理技術(shù)。

它通過獨(dú)特的設(shè)計(jì)，使進(jìn)水通過填充有可再生樹脂的淡水室，使水中雜質(zhì)離子被樹脂吸附，從而得到純化水。而樹脂在直流電場(chǎng)裂解水的作用下得到無污染的再生，因此保持活性。而釋放的雜質(zhì)離子將在直流電場(chǎng)的作用下，定向移動(dòng)，通過離子選擇膜進(jìn)入濃水室被濃水帶走。

這樣一個(gè)純化過程持續(xù)的進(jìn)行：純化——再生——純化，達(dá)到持續(xù)高效生產(chǎn)高純水的目的。

EDI技術(shù)特點(diǎn)：

1、持續(xù)長(zhǎng)久的生產(chǎn)超純水，出水水質(zhì)15 MΩ·cm -18 MΩ·cm；

2、綠色技術(shù)，無需酸堿再生，減少了對(duì)環(huán)境的污染；

3、低能耗，高水質(zhì)；

4、超長(zhǎng)純化水道設(shè)計(jì)，使進(jìn)水行程更大，純化時(shí)間更長(zhǎng)，出水水質(zhì)穩(wěn)定

5、 獨(dú)立密封圈設(shè)計(jì)，杜絕膜堆滲漏；

6、無需清洗，無需再生；

7、 濃水、極水回收利用，有效的節(jié)約使用成本；

運(yùn)行參數(shù)：

控制方式：PLC/PLC+觸摸屏

電源：380V/50Hz

給水：RO純水，一般水的電導(dǎo)率為4-30us/cm。

PH：5.0-8.0(在此PH條件下，水硬度不能太高)

溫度：5-35℃

進(jìn)水壓力：較大為4kg/cm2(60psi)，較小為1.5kg/cm2(25psi)。

EDI的進(jìn)水要求

反滲透RO產(chǎn)水，電導(dǎo)率1-20μs/cm，較大允許電導(dǎo)率≤30μs/cm（NaCl）。

pH值： 7.5—9

溫度： 15℃--35℃

進(jìn)水壓力（DIN）：0.15—0.4MPa

濃水進(jìn)水壓力（C ） 0 10 0 3MP IN）： 0.10—0.3MPa

產(chǎn)水壓力(DOUT)：0.05—0.25MPa

濃水出水壓力(COUT)： 0.02—0.2MPa

進(jìn)水硬度：＜1.0ppm(以CaCO 計(jì)）(推薦0 5ppm以下）

進(jìn)水有機(jī)物：TOC＜0.5ppm

進(jìn)水硅：SiO2＜0.5ppm

可選配置：

預(yù)處理系統(tǒng)：

石英砂過濾器，活性炭過濾器，離子軟化器，保安過濾器，超濾系統(tǒng)，換熱器，多效蒸餾器

加藥系統(tǒng)：

阻垢劑，絮凝劑，PH（酸/堿）

測(cè)控儀表：

流量檢測(cè)儀，電導(dǎo)儀，PH儀，電阻儀，SDI儀，硬度檢測(cè)儀，溫度檢測(cè)儀，ORP儀

清洗裝置：

應(yīng)用范圍：

電力行業(yè)：鍋爐、火電、發(fā)電、冷卻循環(huán)；

餐飲行業(yè)：飲料、食品、乳業(yè)、飲水、酒店；

電鍍行業(yè)：鍍膜、照明、鍍金屬；

光電行業(yè)：光伏、光電、照明、新能源；

電子行業(yè)：電器、芯片、線路板、單片機(jī)、電子原件；

能源行業(yè)：氧化、半導(dǎo)體、硅材料、多晶硅、金屬提取等。

工藝流程：